S_2Br_2, S_2Cl_2, S_2F_2: A New Line of Halogen-Containing Gases for Low-Pressure Plasma Etching Processes
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概要
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- 社団法人応用物理学会の論文
- 1990-09-20
著者
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Pons M.
Cnet-cns France-telecom
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Pelletier J
Laboratoire De Physique Et Chimie Des Procedes Plasma Universite Joseph Fourier (grenoble 1) Unite C
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PELLETIER J.
Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmas
-
ARNAL Y.
Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmas
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PONS M.
CNET Grenoble
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INARD A.
CNET Grenoble
-
Inard A
Cns Meylan Fra
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PELLETIER J.
Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasma, Universite Joseph Fourier (Grenoble 1), Unite CNRS
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