ARNAL Y. | Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmas

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概要

• 同名の論文著者
• Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmasの論文著者

関連著者

• Pons M.

  Cnet-cns France-telecom

• Pelletier J

  Laboratoire De Physique Et Chimie Des Procedes Plasma Universite Joseph Fourier (grenoble 1) Unite C

• PELLETIER J.

  Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmas

• ARNAL Y.

  Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasmas

• PONS M.

  CNET Grenoble

• INARD A.

  CNET Grenoble

• Inard A

  Cns Meylan Fra

• PELLETIER J.

  Laboratoire de Physique et Chimie des Procedes Plasma, Universite Joseph Fourier (Grenoble 1), Unite CNRS

著作論文

• S_2Br_2, S_2Cl_2, S_2F_2: A New Line of Halogen-Containing Gases for Low-Pressure Plasma Etching Processes

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