Reactive Ion Etching of Sputter Deposited Tantalum with CF_4, CF_3Cl, and CHF_3

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概要

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• 社団法人応用物理学会の論文
• 1993-01-15

著者

• Kuo Y

  Texas A&m Univ. Tx Usa

• KUO Yue

  IBM Research Division, T. J. Watson Research Center

• Kuo Yue

  Ibm Reseach Division T.j.watson Rsearch Center

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