低レーリー散乱ケイ酸系光ファイバの線引き
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概要
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光ファイバの損失低減を目的として、筆者等は、Na_2O-MgO-SiO_2(NMS)の低レーリー散乱ケイ酸系ガラスを提案している。従来、Na_2O-Al_2O_3-SiO_2(NAS)がケイ酸系では知られていたが、NMSはNASと同様レーリー散乱が石英ガラスの40%程度まで低減する。しかし、NASに比べと、結晶化に対する安定性が高いことやF添加の低屈折率低散乱ガラス(NMS-F)が得られたことから、ファイバ化はより有望と考えられる。さらに、NMSは作業温度範囲も広い事から、ファイバ化にはるつぼ法が適すると考えられる。本報告では、るつぼ法によるNMSファイバの線引きを検討した結果を述べる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-09-18
著者
-
轟 眞市
独立行政法人 物質・材料研究機構 光材料センター
-
坂口 茂樹
NTTフォトニクス研究所
-
坂口 茂樹
NTT光エレクトロニクス研究所
-
轟 眞市
(独)物質・材料研究機構 光材料センター
-
轟 真市
NTT光エレクトロニクス研究所
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