熱処理したシリカガラスのレイリー散乱と仮想温度
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概要
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This paper presents a reduction in the Rayleigh scattering intensity in VAD silica glass with annealing and its relation to the fictive temperature, T_f, estimated from the shift in the infra-red (IR) absorption peak, an overtone mode of the Si-O-Si stretching vibration. An 18% decrease was observed in the scattering intensity for a sample annealed at 950℃ for 156 h. The decrease appears to be mainly due to the T_F reduction. The T_F reduction rate for a dehydrated sample was higher than that for an undehydrated sample. This is explained by the interaction between termination units (-OH and -Cl) and the glass network.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 1997-05-01
著者
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