CMOSプロセスを用いた1/4インチ25万画素増幅型撮像素子
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概要
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0.8μmCMOSプロセスを用いて、1, 4インチ25万画素の増幅型固体撮像素子AMIを開発した。2行混合読出しの実現方法として画素内部で信号電荷を混合する方式を採用し、レイアウトやフォトダイーオドのポテンシャル最適化により画素サイズの縮小を図った。画素サイズ7.2×5.6μm^2で開口率28%が得られ、感度は1.8μA/lx、飽和レベルは180μAであった。FPNは飽和に対して-55dB、スミアは-90dB以下であることを確認した。更に、HDTVレートまで応用可能な高速動作を確認した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-08-26
著者
-
菅原 正幸
NHK放送技術研究所
-
藤田 欣裕
NHK放送技術研究所
-
菅原 正幸
日本放送協会 放送技術研究所
-
山脇 正雄
三菱電機株式会社 LSI研究所
-
山脇 正雄
三菱電機株式会社ulsi開発研究所
-
川島 光
三菱電機株式会社ULSI開発研究所
-
安藤 文彦
NHK放送技術研究所イメージデバイス研究部
-
村田 直文
三菱電機株式会社ULSI研究所LSIプロセス開発第4部
-
村田 直文
三菱電機ULSI研究所
-
山脇 正雄
三菱電機ULSI研究所
-
川島 光
三菱電機ULSI開発研究所
-
安藤 文彦
Nhk放送技術研究所
-
安藤 文彦
Nhk放送技研
-
安藤 文彦
Nhk放送技術研究所 立体映像音響
-
安藤 文彦
Nhk技研
-
村田 直文
三菱電機株式会社ulsi開発研究所lsiプロセス開発第3部
-
安藤 文彦
Nhk 技研
-
村田 直文
三菱電機 Ulsi開研
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