レジスト寸法の簡易予測方法

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概要

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超解像技術の実用化に不可欠の光近接効果補正(OPC)への適用が可能な、簡易で高精度のレジスト寸法の予測方法を開発した。本方法では、現像過程を、第1ステップでは一定エネルギー以上で露光された領域で垂直方向にのみ進行し、第2, 第3ステップでは、第1ステップで形成されたレジスト側壁が水平方向に移動する、とする3ステッププロセスを仮定した。さらに第2ステップでのレジスト側壁の移動に対し、レジストの溶解特性を指数関数で、光学像強度分布を線型関数で、それぞれ近似した。その結果、現像完了でのレジスト寸法を溶解特性, 像分布特性を表す少数のパラメータを含む非常に簡単な式により記述することができた。この方法による予測の精度は実験結果との比較により検証され、その有効性が確認された。
1998-11-20

著者

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