ArFエキシマレーザリソグラフィの開発進捗と将来展望
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概要
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ArFエキシマリソグラフィ技術の開発進捗をレビューした。同技術の必要時期は、2003年と見込まれ、開発は今までにない効率の良さが求められている。一方で、新しい波長を用いたリソグラフィ技術の立ち上げは、多大な工数及び時間が必要である。これら相反する条件を満足させて行くための一つの解が、コンソーシアムの設立及びその機能である。要素技術開発段階においてコンソーシアムが各技術の仕様を取りまとめ、コンセンサスが十分に取れた上で各要素技術を同時に立ち上げていくことは、開発期間を短縮するために必須の手法である。ArFエキシマリソグラフィの開発においては、各要素技術の立ち上がりは急速に進んでおり、2003年実用化に向けて今後ますます活発化し発展するものと確信する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1998-11-20
著者
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