高密度光ディスクプロセス

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概要

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従来より光ディスクプロセスには半導体プロセスと同様、フォトレジストを使ったリソグラフィ手法か用いられてきた。これらふたつのプロセスの間には共通点もあるが異なる点も多くみられ、プロセス材料、装置に求められる特性は大きく異なるものとなっている。そのため、半導体集積回路の製造工程で用いられている高密度化技術かそのまま高密度光ディスクプロセスに適用できるわけではない。本稿では高密度光ディスクプロセスを進めるにあたり、半導体プロセスとの相違点を明確にしつつ用いられる材料および装置に必要とされる諸特性について考察する。
社団法人電子情報通信学会の論文
1995-10-20

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