電子ビーム記録装置と高密度パターニングプロセス : 高密度記録技術(光記録及び一般)
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概要
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電子ビームを用いた記録では, 電子の散乱が形成されるパターンに大きな影響を与える. 特に高密度パターニングにおいては, 近接効果の影響から微細パターンの形成は困難となる. 近接効果の影響を低減するプロセスとして, 従来のシリコン基板の代わりに炭素基板を用いることにより, パターン密度を向上させた場合にもパターン解像限界の向上を実現した. さらに, 光ディスクパターン記録実験として, DVD基準で510GB記録容量のパターニングを実現した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2005-02-25
著者
-
小林 正規
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
-
佐藤 恵
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
-
勝村 昌広
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
細田 康雄
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
加園 修
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
橋本 和信
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
北原 弘昭
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
飯田 哲哉
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
栗山 和巳
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
-
北原 弘昭
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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細田 康雄
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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飯田 哲哉
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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飯田 哲哉
パイオニア(株)研究開発本部総合研究所ナノプロセス研究部
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橋本 和信
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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栗山 和巳
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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勝村 昌広
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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加園 修
パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部
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小林 正規
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
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佐藤 恵
パイオニア株式会社 総合研究所 ナノプロセス研究部
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