光反応性低分子・高分子複合体による表面レリーフ及び位相格子の同時記録(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
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概要
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光化学反応性低分子・高分子複合体を用い、ホログラム記録の形成過程の調査を行った。複合体に波長325nmのHe・Cdレーザーの干渉光を照射してホログラム回折格子を作成し、表面レリーフ構造及び目折効率を測定した。その結果、作成された回折格子には、表面レリーフ格子と位相格子が共存していることがわかった。また熱処理の影響を観察した結果、表面レリーフ構造は100℃前後で消失する一方で、位相格子は200℃付近まで深くなることがわかった。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2003-10-03
著者
-
江本 顕雄
長岡技術科学大学工学部
-
小野 浩司
長岡技術科学大学工学部
-
川月 喜弘
兵県大院工
-
小野 浩司
長岡技術科学大学
-
川月 喜弘
姫路工業大学工学部応用化学科
-
小野 浩司
長岡技術科学大学電気系
-
田本 誉
長岡技術科学大学工学部電気系
-
江本 顕雄
長岡技術科学大学
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