フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
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概要
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光反応性有機材料への光照射で引き起こされる化学反応や物質移動によって回折格子形成が可能であることは広く知られている。回折格子の作製法としてとして代表的なマスク露光法は簡便な光学系で大面積露光が可能なことやパターンの多様性から有用な方法である。近接露光を行う際のフォトマスクと基板との間のギャップ長は作製された格子の特性を決定する重要なパラメーターであり、本研究ではフォトポリマーヘマスク露光法によって回折格子を記録した際の回折特性とギャップ長との相関関係について、更に光源のコヒーレント性による格子形成の違いについて調査した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2007-11-09
著者
-
小野 浩司
長岡技術科学大学工学部
-
川月 喜弘
兵県大院工
-
小野 浩司
長岡技術科学大学
-
川月 喜弘
兵庫県立大学大学院工学研究科
-
小野 浩司
長岡技術科学大学 工学部
-
田邉 春美
長岡技術科学大学
-
川月 喜弘
兵庫県立大学
-
川月 喜弘
兵庫県立大
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