B-10-171 遠方出射パターンを用いた有効断面積評価精度に関する考察
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概要
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近年, 光非線形効果の低減を目的とし, 光ファイバの有効断面積(A_<eff>)を拡大したファイバが各種報告がされており, これらファイバのA_<eff>を正確に把握する事が必要不可欠となっている。今回, 遠方出射パターン(FFP)法を用いたA_<eff>の評価精度, 並びにFFPの測定条件について検討を行ったので報告する。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1999-03-08
著者
-
大橋 正治
NTTアクセス網研究所
-
中島 和秀
NTTアクセスサービスシステム研究所
-
大橋 正治
日本電信電話株式会社 Nttアクセスサービスシステム研究所
-
大橋 正治
Nttアクセスサービスシステム研究所ニュービジネス推進p海外事業展開g
-
大橋 正治
NTTアクセスサービスシステム研究所
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