磁性薄膜インダクタの作製
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
携帯機器等の電源部分の軽量小型化および高機能化を図るために,マイクロスイッチング電源の小型が求められている。その中で,特に磁気デバイスについて改善の要求が大きい。そこで,本報告では,磁気デバイスを小型化するための第一ステップとして磁性薄膜インダクタを作製した。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-03-11
著者
-
小沢 武
神奈川県産総研
-
根岸 靖
神奈川県産総研
-
栗原 幸男
神奈川県産業技術総合研究所
-
馬場 康壽
神奈川県産業技術総合研究所
-
栗原 幸男
神奈川県産業技術センター
-
小沢 武
神奈川県産業技術総合研究所
-
小沢 武
神奈川県産業技術センター
-
根岸 靖
神奈川県産業技術総合研究所
-
馬場 康壽
神奈川県産業技術センター
関連論文
- C-6-7 赤外線IDシステムのための貫通配線型直列接続PDの開発(C-6.電子部品・材料,一般セッション)
- マイクロマシン用薄膜電磁石の磁場解析および作製
- マイクロ磁気デバイスのためのNi-Fe磁性薄膜の作製
- 大バルクハウゼン効果を用いた薄膜磁気センサの試作
- 大バルクハウゼン効果を用いた薄膜磁気センサの作製(センサ・計測)
- 大バルクハウゼン効果を利用した薄膜磁気センサの小型化
- 大バルクハウゼン効果を用いた薄膜磁気センサの作製
- 大バルクハウゼン効果を利用した薄膜磁気センサの作製
- 薄膜電磁石の作製およびマイクロミラー駆動への適用
- 薄膜電磁石を用いたマイクロミラーの作製
- 薄膜電磁石の作製およびマイクロミラー駆動への適用
- 半導体デバイスとの集積化を目指した薄膜インダクタの作製
- 薄膜インダクタの作製および半導体デバイスとの集積化
- 磁性薄膜デバイスとCMOSデバイスの集積化の試み
- 半導体素子との集積化を目指した薄膜インダクタの作製
- 磁性薄膜インダクタの作製
- 高速スキャンニングCWレーザ・アニーリングを用いたシリコン基板温度変化の有限要素法による考察