マイクロ磁気デバイスのためのNi-Fe磁性薄膜の作製
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概要
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薄膜インダクタなどのマイクロ磁気デバイスの磁心となる磁性薄膜を、Ni-Feパーマロイを用いて作製した。マイクロ磁気デバイスの磁心材料としては、高飽和磁束密度、高透磁率が要求され、さらに、高周波特性としての低損失が要求される。本発表では、RFマグネトロシスパッタを用いて、Ni-Fe(80:20wt%)による磁性薄膜を作製し、その磁気特性を検討することを目的とした。
- 1996-09-18
著者
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小沢 武
神奈川県産総研
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根岸 靖
神奈川県産総研
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栗原 幸男
神奈川県産業技術総合研究所
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馬場 康壽
神奈川県産業技術総合研究所
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栗原 幸男
神奈川県産業技術センター
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小沢 武
神奈川県産業技術総合研究所
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小沢 武
神奈川県産業技術センター
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根岸 靖
神奈川県産業技術総合研究所
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馬場 康壽
神奈川県産業技術センター
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