高速ガス流中蒸発法による薄膜および微粒子の成長
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概要
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8〜40hPaの抵圧のHeまたはArを、5〜40m, sの速度で強制的に流した高速ガス流中でAg,Al,Ti,MnおよびSbの蒸発を行ない、生成される薄膜および微粒子の構造、粒子サイズ等を電顕観察で調べた。高速ガス流中では蒸気領域、吸着成長領域および融合成長領域がガスの流れに沿って長く延びること、生成される微粒子はナノ・メータ級で従来のガス中蒸発法と比べて極めて微細であること、高温相のβ-Mnや非晶質のSbの微粒子が生成されるように、微粒子の成長が熱的に極めて非平衡の中で行なわれることが特徴である。ArとN_2の混合ガスを用い、マイクロ波プラズマを重疊してAlN,TiNの薄膜と微粒子が作製された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1994-05-19
著者
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