太陽電池用多結晶シリコン基板における熱処理の影響 : フォトルミネセンスとX線蛍光分析による評価
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概要
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キャスト法による太陽電池用多結晶シリコン基板に対する,熱アニールの影響を検討した.窒素雰囲気中にて300℃〜800℃と温度を変化させて30分間のアニールを実施した.そのフォトルミネセンスを測定したところ,強度が300℃では減少し,400℃〜500℃にて未処理と同程度に回復,それ以上800℃まででは減少した.これは単結晶で報告されている結果と異なる.また,未熱処理と500℃,30秒の急速アニール処理した結晶のX線蛍光分光分析を実施し,不純物分布を比較・観察した.その結果,転位の位置にクラスタを形成していたNi,Cuの凝集塊がアニールによって結晶中に溶解・拡散していることを見出した.
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-05-22
著者
-
山口 真史
豊田工業大学大学院工学研究科極限材料専攻
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山口 真史
豊田工業大学
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山口 真史
豊田工業大学大学院工学研究科
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今泉 充
豊田工業大学大学院 工学研究科
-
McHugo Scott
米国ローレンスバークレイ国立研究所
-
金子 恭二郎
住友シチックス(株)研究開発センター
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