複写機における静電コントラスト
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
複写機の現像空間における電位分布を有限要素法を用いて解析した結果、潜像部においては電位は潜像中心点で最大となるが、非潜像部においては、電位の最大点は現像空間内に移る。また、電界は最外部の電荷パターンの外側で最大となり、潜像中心部に近ずくにしたがって弱まる。そして電界の方向は、潜像中心から非潜像の中心に移動する間に180度変化する。次に、静電コントラストを求める式を導出し、数値解析と比較したところ非常によく一致した。また、瀬電コントラストを増すのに有効なパラメータはバイアス電圧V_B,比誘電率の比ε_r2>,ε_r1>,感光体膜荒L,実行電位V_Rであることがわかった。このうち、実際に設計可能なパラメータはV_R,V_BおよびLである。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1993-05-21
著者
-
今田 寛
埼玉大学
-
今田 寛
埼玉大学総合情報処理センター
-
今田 寛
埼玉大学工学部電気工学科
-
竹内 智
埼玉大学
-
木脇 久智
福井工業大学
-
木脇 久智
福井工大
-
竹内 智
埼玉大学工学部
-
博本 淳
三田工業
-
東口 照昭
三田工業
-
今田 寛
埼玉大学工学部
関連論文
- パソコンを用いた等価インダクタンス回路
- イメ-ジスキャナとパソコンを用いた画像計測
- 試験における重み係数の一決定法
- 学生成績の統計解析--入試成績と学生成績の間の相関について
- 学生成績の統計解析--スピアマンの順位相関係数を用いて
- 学生実験におけるマイコンの利用
- 複写機のドラム・スリーブ間距離による電界の変化
- トナー粒子の充填法とそのインピーダンス
- 複写機における電位の収束性に及ぼす分割数について
- 任意の2次元電荷分布における電位計算
- 表面電位計の試作とその設計法について
- 14)複写機のコントラスト・ポテンシャル(放送方式研究会)
- 電子複写機の現像空間における電界の解析結果
- 4)電子複写機の現像空間における電位(画像通信システム研究会)
- 鋳物の型ばらし終了判定システム
- 複写機のコントラスト・ポテンシャル : 放送方式
- ウェーブレット変換による型ばらし時の雑音解析
- 複号機のコントラスト・ポテンシャル
- 鋳物における型ばらし時間の推定法
- 複写機の現像空間における電位の計算
- 現像機のトナー付着に及ぼす接触電界の影響
- 電子複写機の現像空間における電位 : 画像通信システム
- 電子複写機の現像空間における電位
- 複写機における静電コントラスト
- 光導電性薄膜の分布定数回路モデルによる解析
- 表面電位計の試作とその特性について
- マイコンを用いたマ-クシ-トリ-ダの試作
- ワンボ-ドマイコンを用いた体型指数測定器
- 光導電性薄膜の分布定数回路モデルによる解析
- ゾル・ゲル法による二次電子増倍膜と感光性ガラスを用いたマイクロチャネルプレート
- 複写機の現像空間におけるコントラストポテンシャル
- 損失のある分布定数線路をもつ非線形回路の計算機解析
- 非晶質半導体を用いた積層ディジタルデバイス
- 複写機の現像域における電位分布の数値解析--コントラストポテンシャルについて
- 表面電荷分布表示装置の研究-2-
- 鋳物における型ばらし騒音とその終了時判定システム
- A-10-7 鋳物における型ばらし終了時の判定システムの製作
- 複写機の非平行現像空間における電位の解析
- 複写機の非平行現像空間における電位の解析
- 複写機の非平行現像空間における電位の解析
- D-11-75 非平行現像空間における角度と電位の関係
- D-11-81 非平行現像空間における電位計算
- 情報ネットワ-クにおける出力サ-バに関する研究
- 周期関数的形状を有する導体表面の電界解析
- 高分子被膜のインピ-ダンス特性
- 真空中電圧印加後におけるアルミナ表面の帯電電荷分布の測定
- 複写機用トナー粒子層の等価回路導出について
- 複写機用トナー粒子層の等価回路導出について
- 2元真空蒸着法による非晶質CoFe2O4膜の作成および組織
- D-11-82 トナー粒子の欠損率とその等価インピーダンス
- 空隙を持つトナー粒子層の抵抗シミュレーション