ゾルゲル法によるSiO_2-TiO_2薄膜の合成と性質
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概要
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ゾルゲル法によるSiO_2-TiO_2緻密膜の作製条件を検討した.SiO_2-TiO_2の組成比,熱処理条件が緻密膜形成に及ぼす影響について調べた.膜の表面状態,屈折率,分子構造,熱分解特性について,SEM,エリプソメトリ,赤外スペクトル,示差熱分析により調べた.また,有機金属熱分解法(MOD法 : Metalllo Organic Deposition)で作製した膜について比較した.ゾルゲル法で作製した膜は,MOD法により作製した膜がポーラスであるのに対して平滑かつ緻密であることが明らかとなった.
- 2002-12-01
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