ゾルゲル法によるCRT用低抵抗・低反射・高コントラスト化膜の開発と評価(電子材料)

概要

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CRT用高機能表面処理膜の開発を目的として,低抵抗,低反射かつ高コントラスト化の機能を有する表面処理膜の開発と評価を行った.本開発膜は,波長選択吸収膜,導電性を有する低抵抗膜,無機膜が順次積層された3層構造をもつ膜である.また,膜は,低コストな膜作製手法であるゾルゲル法を用いて,溶液塗布により形成される.コントラスト向上に寄与する波長選択吸収特性(透過率50%:572nm),反射防止特性(反射率0.85%),漏れ電磁波遮断及び帯電防止特性(表面抵抗7.0×10^2Ω/□)に優れた膜である.また,この膜は耐候性にも非常に優れており,実用的に十分な膜強度を有する.
2003-07-01