斜出射X線測定と走査型トンネル顕微鏡を用いる局所表面分析
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概要
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特性X線を試料表面からすれすれの取り出し角度で検出する斜出射X線分析法を XRF, EPMA, PIXE に適用した.斜出射測定により連続 X 線バックグラウンドが減少するとともに表面敏感性が向上し,薄膜分析,表面分析,微粒子分析に有効であることが分かった.薄膜分析においては膜厚や密度の評価が可能である.斜出射法では励起プローブを垂直入射できる.よって,プローブサイズで限定される微小領域の表面・薄膜分析が可能となる点が特徴である.また,STM に X 線分析を組み合わせる実験を行い,新しいタイプの微小領域での元素分析法として研究を進めている.
- 社団法人日本分析化学会の論文
- 2002-08-05
著者
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