425 放射光による微細 3 次元加工 : マスクとレジストの相対位置制御
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概要
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Deep X-ray Lithography (DXL), one of the microfabrication techniques using a synchrotron radiation, has been developed. To fabricate 3-D microstructures by DXL, a method was proposed that the relative position of an X-ray mask and a resist was changed. Thus, we calculated a shape of a 3-D microstructure fabricated by this method, based on deposited dose distributions on resist surface. In the calculation, we used the model in which an X-ray mask with a transmission area of a circular aperture was moving circularly during exposure. As a result, the calculated shape resembled the one fabricated by the exposure experiment.
- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2003-10-17
著者
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才木 常正
兵庫県立工業技術センター
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才木 常正
大阪大学大学院 基礎工学研究科
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才木 常正
兵庫県立工業技術センター 環境・バイオ部
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大松 和弘
姫路工大院
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才木 常正
姫路工大高度研
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高橋 豊
姫路工大院
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服部 正
姫路工大高度研
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才木 常正
姫路工大高度研:兵庫工技センター
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