自己組織化するSiO_2/TiO_2/PMMAナノ傾斜薄膜の成膜とその低反射特性
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概要
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Self-organized nanograded SiO_2/TiO_2/Polymethyl methacrylate (PMMA) thin film was successfully prepared by only one coating from the combination of Tetraethyl orthosilicate (TEOS) and Titanium tetraisopropoxide (TTIP). Sufficient kinetics difference between two alkoxides was an important requirement for the processing of the graded thin film in this process. The film was colorless and transparent due to two gradual interfaces of three layers. The reflectance of the SiO_2/TiO_2/PMMA graded film was lower than 2% over a wide wavelength range, and this is attributed to the interference of lights reflected from both the SiO_2 layer and TiO_2 layer. Although further investigation and precise process control are required to further decrease reflectance, this film can be formed using only one coating process and has great potential as a new low reflective coating.
- 社団法人日本セラミックス協会の論文
- 2004-03-01
著者
-
橋本 和仁
東京大学先端科学技術研究センター
-
中島 章
東京工業大学大学院理工学研究科材料工学専攻
-
渡部 俊也
東大 先端科学技研セ
-
渡部 俊也
東京大学先端科学技術研究センター
-
高見 和之
東京大学先端科学技術研究センター
-
橋本 和仁
東京大学先端研、kast
-
中島 章
東京工業大学 大学院理工学研究科
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