31a-BF-7 共平面での同時反射曲線
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1978-03-10
著者
関連論文
- 30p-D-11 X線回折法によるSi(111)√×√-Bi構造
- 1p-S-5 高角入射条件下でのSi(111)√×√Bi構造によるX線回折の観測
- 22a-N-7 X線ホログラフィによる顕微法
- 10p-T-6 SOR光を用いた軟X線ホログラフィー
- 12p-T-1 PF精密X線光学実験装置 : I概要
- 6C5 Biのgalvanomagnetic効果 III
- Biの極低温でのホール効果II : 極低温
- 4p-YE-13 YBa_2Cu_3O_膜のI-V特性に対するローレンツ力依存性
- 31a-L-11 V/Cr多層膜の超伝導特性におけるV膜厚依存性
- 31a-L-8 超伝導多層膜Nb/NbZrの上部臨界磁場の角度依存性
- 28a-YE-2 YBCO膜の電流電圧特性と異方性
- 13p-D-2 V/Cr多層膜の超伝導特性に対する結晶配向性の影響
- 13p-D-1 Nb/NbZr多層膜の臨界電流と秩序パラメータの局在
- 1p-T-4 超伝導多層膜Nb/NbZrの臨界電流密度と次元性
- 1p-T-1 V/Cr多層膜の超伝導特性III
- 28p-P-11 V/Cr多層膜の超伝導特性II
- 28p-P-10 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性IV
- 29p-ZC-5 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性III
- 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性
- 3a-ZE-13 NbZr/Nb多層膜の超伝導
- 10a-Z-12 GeのK吸収端近傍での異常透過とその温度変化
- V/Cr多層膜の超伝導特性
- 2p-N-1 共平面同時反射条件下におけるX線回折強度曲線
- 3a-M-11 X線散漫散乱によるシリコン単結晶中の微小欠陥の解析
- 6p-B4-1 Si(111)-√3×√3の低エネルギーイオン散乱
- シンクロトロン放射などの強力X線を用いたX線解析法による格子欠陥の構造解明
- 垂直入射に近いX線回折法による結晶表面構造の研究
- 14p-T-1 電子の固体に於ける(e,2e)散乱
- 11p-A-9 表面における低エネルギーヘリウムイオン散乱の共鳴現象
- 27p-L-11 X線波動場法による蛍光X線放射と光伝導の変化の測定
- プラスチックシンチレ-タX線検出器 (物質のミクロの構造の動的解析) -- (X線検出器及びデ-タ処理)
- 2p-M-11 各種の中性子干渉計の製作
- 超高真空中の精密回転機構 (回折実験技術の進歩) -- (電子線回折)
- 3a-AD-3 同時反射条件下でのX線回折強度曲線の変化
- 3a-BF-11 二要素の中性子線干渉計
- 31p-BF-15 酸化膜シリコンから回折過程で放出されるX線光電子
- 31a-BF-7 共平面での同時反射曲線
- X線,電子線の動力学的回折過程において散乱あるいは放出される電子線,X線などの強度異常
- 11a-Z-8 極性結晶GaPの回折過程で放出されるX線光電子
- 2p-PSA-46 回転楕円ミラー型高時間分解光電子分光器の開発
- 7p-H-10 X線の非対称反射に伴う光電子収量の角度変化
- 2p-A-13 回折過程で放出されるX線光電子
- 12a-K-11 X線の動力学的回折過程で放出される電子の強度変化
- 4p-KE-7 中性子のSi単結晶における動力学的回折現象
- 6a-C-8 超伝導薄膜の電流-電圧特性 II
- 7a-G-1 超伝導薄膜の電流-電圧特性
- 27p-W-4 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性(II)
- 27p-W-3 V/Cr多層膜の超伝導特性
- 3p-BF-7 X線光学
- 10p-Z-4 SOR利用実験施設
- 7p-H-11 電気四重極遷移の光電吸収断面積の偏光X線による測定
- 6p-P-2 熱中性子ストーレッジ・リング作製の可能性
- プラスチックシンチレータX線検出器
- 超高真空中の精密回転機構
- 單結晶におけるX線回折に伴う非彈性散乱強度の変化 : 粒子線・X線
- X線=結晶スペクトロメーターによる単結晶回折現象の研究 : 粒子線・X線
- Si単結晶の透過及び反射強度曲線の測定と計算(X線)
- 10B11 不純物散乱による半導体電子の電氣抵抗
- 31p-M3-3 結晶表面構造のX線トポグラフ法による観察の試み(X線・粒子線)
- 28a-SC-5 Nb/Nb_Sn_x多層膜超伝導体の上部臨界磁場(28a SC 低温(超伝導多層膜,近接効果その他))