7p-H-11 電気四重極遷移の光電吸収断面積の偏光X線による測定
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1976-09-16
著者
関連論文
- 30p-R-10 La_Sr_CuO_4単結晶におけるc軸方向の磁束相関の発達
- 22a-N-7 X線ホログラフィによる顕微法
- 10p-T-6 SOR光を用いた軟X線ホログラフィー
- 4p-C-1 Nb/Ge多層膜の臨界磁場
- 24aP-9 アモルファスW/Si多層膜超伝導体におけるボルテックスの動的挙動の膜厚依存性 (II)
- 27aYM-11 アモルファスW/Si多層膜におけるボルテックスの動的挙動の膜厚依存性
- 1p-R-9 超伝導多層膜Nb/NbZrにおける上部臨界磁場の角度依存性
- 28a-Q-2 Nb/NbZr多層膜におけるHc_2の角度依存性と磁束線の構造II
- Nb/NbZr多層膜におけるH_の角度依存性と磁束線の構造
- 6C5 Biのgalvanomagnetic効果 III
- Biの極低温でのホール効果II : 極低温
- 25aWF-12 dc-transformer法によるアモルファスW/Si多層膜超伝導体磁束系の考察
- 29p-B-5 アモルファスW/Si多層膜超伝導体における渦糸のPlastic Flow現象
- 28a-K-8 多層膜超伝導体における電流電圧特性と磁束系相図
- 31p-G-15 2次元超伝導体アモルファス・タングステン(a-W)膜における磁束の挙動
- 8a-X-5 アモルファスW/Si多層膜における熱励起vortex loopのsize効果
- 7p-M-3 YBCO膜における磁束線間の相関の発達
- 7a-M-6 多層膜超伝導体における磁束格子融解と次元性
- 5a-K-6 アモルファスSi/W/Si薄膜における磁場誘起型S-I転移とスケーリング則
- 28p-M-11 多層膜超伝導体における磁場中超伝導転移
- アモルファスW超薄膜における超伝導-絶縁体転移
- W/Si多層膜の次元性と零磁場I-V特性
- YBCO膜における磁束線の形成と構造変化
- W/Si多層膜におけるGLゆらぎと異方性
- W/Si多層膜における零磁場I-V特性
- YBa_2Cu_3O_膜の低磁場領域におけるI-V特性
- 31a-PS-42 YBa_2Cu_3O_膜のI-V特性におけるスケーリング則
- 31a-R-4 W/Si多層膜の磁場中輸送特性
- 4p-YE-13 YBa_2Cu_3O_膜のI-V特性に対するローレンツ力依存性
- 31a-L-11 V/Cr多層膜の超伝導特性におけるV膜厚依存性
- 31a-L-8 超伝導多層膜Nb/NbZrの上部臨界磁場の角度依存性
- 28a-YE-2 YBCO膜の電流電圧特性と異方性
- 13p-D-2 V/Cr多層膜の超伝導特性に対する結晶配向性の影響
- 13p-D-1 Nb/NbZr多層膜の臨界電流と秩序パラメータの局在
- 1p-T-4 超伝導多層膜Nb/NbZrの臨界電流密度と次元性
- 1p-T-1 V/Cr多層膜の超伝導特性III
- 28p-P-11 V/Cr多層膜の超伝導特性II
- 28p-P-10 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性IV
- 29p-ZC-5 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性III
- 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性
- 3a-ZE-13 NbZr/Nb多層膜の超伝導
- 31p-BF-13 Ge のK吸収端近傍での異常透過
- 10a-Z-12 GeのK吸収端近傍での異常透過とその温度変化
- V/Cr多層膜の超伝導特性
- 2p-M-11 各種の中性子干渉計の製作
- 3a-AD-3 同時反射条件下でのX線回折強度曲線の変化
- 3a-BF-11 二要素の中性子線干渉計
- 31p-BF-15 酸化膜シリコンから回折過程で放出されるX線光電子
- 31a-BF-7 共平面での同時反射曲線
- 11a-Z-8 極性結晶GaPの回折過程で放出されるX線光電子
- 2p-PSA-46 回転楕円ミラー型高時間分解光電子分光器の開発
- 7p-H-10 X線の非対称反射に伴う光電子収量の角度変化
- 2p-A-13 回折過程で放出されるX線光電子
- 12a-K-11 X線の動力学的回折過程で放出される電子の強度変化
- 4p-KE-7 中性子のSi単結晶における動力学的回折現象
- 6a-C-8 超伝導薄膜の電流-電圧特性 II
- 7a-G-1 超伝導薄膜の電流-電圧特性
- 29p-K-1 X線渡来の頃
- 29p-K-1 X線渡来の頃
- 27p-W-4 超伝導多層膜Nb_Zr_/Nbの臨界電流密度の異方性(II)
- 27p-W-3 V/Cr多層膜の超伝導特性
- 4p-NF-7 Point Contact Junction Nb-Nb-Oxide-Ferromagnetic SuperにおけるI_cの温度依存
- 3p-BF-7 X線光学
- 10p-Z-4 SOR利用実験施設
- 7p-H-11 電気四重極遷移の光電吸収断面積の偏光X線による測定
- 6p-P-2 熱中性子ストーレッジ・リング作製の可能性
- 單結晶におけるX線回折に伴う非彈性散乱強度の変化 : 粒子線・X線
- X線=結晶スペクトロメーターによる単結晶回折現象の研究 : 粒子線・X線
- Si単結晶の透過及び反射強度曲線の測定と計算(X線)
- 10B11 不純物散乱による半導体電子の電氣抵抗
- 8a-D-1 Ge吸収端波長の附近のX線による積分反射強度の測定
- 7pQB-4 Antidot Pinning arrayを有するW/Si超伝導多層膜における磁束系の動的性質((薄膜・渦系),超伝導,領域6)
- 2p-YE-6 YBCO膜のグラス転移近傍における磁束の構造と運動(2pYE 低温(高温超伝導・混合状態(相図,磁気緩和等)),低温)
- 28a-SC-5 Nb/Nb_Sn_x多層膜超伝導体の上部臨界磁場(28a SC 低温(超伝導多層膜,近接効果その他))
- 2p-YE-7 YBa_2Cu_3O_膜の低磁場領域におけるI-V特性II(2pYE 低温(高温超伝導・混合状態(相図,磁気緩和等)),低温)