20pTK-4 中性子散乱による Ge-Si 液体合金の静的構造
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2003-08-15
著者
-
伊丹 俊夫
北大院理
-
伊丹 俊夫
北海道大学大学院理学研究院化学部門
-
正木 匡彦
宇宙航空研究開発機構
-
正木 匡彦
NASDA
-
石井 慶信
原研中性子
-
青木 拓克
フルウチ化学 (株)
-
青木 拓克
NASDA
-
石井 慶信
原研・先端研
-
石井 慶信
放振協
-
石井 慶信
原研・中性子利用研究センター
-
正木 匡彦
芝浦工業大学
-
伊丹 俊夫
北海道大学理学部
-
伊丹 俊夫
北大・理
-
石井 慶信
原研
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