7a-K-4 ^<15>NH_3分子の10μmバンドの赤外スペクトル
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
-
3a-E-1 遠赤外レーザーによる気体の屈折率の測定
-
7p-Q-2 励起状態における誘導放出光の閉じ込め
-
6p-Q-6 4.3μmCO_2パルスレーザー準位における回転緩和
-
28a-YA-7 導波路型CO_2シークエンスレーザー過程の振動緩和
-
28a-YA-6 4.3μmCO_2パルスレーザーにおける振動及び回転緩和
-
4.3μmCO_2パルスレーザーにおける振動緩和及び誘導放出レート
-
4.3μm蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和 : 異種ガス依存性と4重極子相互作用
-
導波路型CO_2シークエンスレーザー媒質の実効温度
-
31p-S-10 4.3蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和
-
29a-YB-11 導波路型CO_2シークエンスレーザー媒質の回転温度 IV
-
29a-YB-10 4.3μm蛍光ラムディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和
-
29p-YP-6 導波路型CO_2シークエンスレーザー媒質の回転温度 III
-
3p-K-6 導波路型 CO_2 シークエンスレーザー媒質の回転温度 II
-
3p-K-5 4. 3μm蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和(J依存性)
-
12a-DA-3 導波路型CO_2シークエンスレーザー媒質の回転温度
-
3p-P-9 CO_2レーザーによるOptogalvanic効果 III : Side hight Fluctuation
-
1p-Q-1 CO_2 laserにおけるOpto Galvanic効果II
-
2p-NP-6 CO_2laserによるOptogalvanic効果
-
30p-U-14 CO_2レーザーの回転緩和定数 : Gain法による測定
-
1p-T-5 CO_2レーザの回転緩和定数のJ依存性
-
29a-QF-4 赤外赤外二重共鳴法によるCO_2レーザー媒質の緩和の研究
-
3p-T-13 CO_2レーザー媒質中における赤外赤外二重共鳴(II)
-
5p-N-5 ダイオードレーザーによるCO_2レーザー媒質の振動状態分布の測定
-
3p-T-4 PbO分子のレーザー励起蛍光寿命の測定
-
5a-N-11 BaOの電子励起状態分布,およびレーザー誘起蛍光スペクトルの測定
-
27a-R-4 CO_2シークエンスレーザーにおける回転緩和 : 異種ガスの影響とレート方程式
-
3a-M-3 CO_2シークエンス・レーザーにおける回転緩和 : 緩和パラメータの異種ガス,電流依存性
-
6p-H-7 分子線メーザーによるH_2COのZeeman効果
-
21p-B-7 炭酸ガスレーザー干渉計
-
3a-E-2 遠赤外レーザーを用いたシュタルク分光学
-
12p-P-10 遠赤外レーザー出力とレーザープラズマの状態
-
4p-E-11 OH,OD基遠赤外メーザー
-
3a-E-3 遠赤外メーザーを用いた分子分光学
-
遠赤外線メーザー発振器と検波器 : 量子エレクトロニクス
-
熱励起による赤外線メーザー : 量子エレクトロニクス
-
30a-S-7 CO_2レーザーの回転緩和のJ依存性
-
4a-W-5 CO_2 レーザー過程の衝突緩和 : 内部エネルギー交換と J 依存性
-
3a GL-8 CO_2レーザー過程の回転緩和J依存性と衝突緩和の選択律
-
4a-DS-3 パルス放電CO_2レーザーの緩和発振とその解析
-
4a-DS-2 パルスCO_2レーザー過程におけるガス解離とCOの効果
-
31p-CF-1 パルス放電 Co_2 レーザー過程における回転緩和
-
12a-T-8 CO_2レーザー過程におけるガス解離とCOの効果
-
12a-T-7 パルス放電CO_2レーザーの緩和発振と振動緩和
-
4p-P-5 CO_2レーザー過程における回転緩和(回転温度の異種ガスによる影響)
-
5a-S-12 CO_2レーザー過程におけるCO_2解離とガス温度
-
5a-S-11 CO_2レーザー過程における回転緩和(回転温度の圧力依存性)
-
誘導ラマン効果の理論
-
6a-P-2 ラジオ波分光学I. : 分光計
-
11a-D-11 分子線メーザーによるH_2CO分子のZeeman効果
-
1a-K-1 CO_2シークエンスレーザー準位のγ_3モードカップリング
-
25p-ZL-9 4.3μm蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和(異種ガスによる影響)
-
28a-T-2 4.3μm蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和
-
25a-N-1 CO_2シークエンスレーザーにおける回転緩和 : 回転温度とレート方程式
-
4p-S-9 CO_2レーザー過程における回転緩和II
-
10a-U-5 CO_2レーザー過程における回転緩和
-
12a-DA-4 4.3μm蛍光ラム・ディップによるCO_2レーザー準位の回転緩和
-
12a-DA-2 CO_2レーザーパラメータの電流依存性 : 10.6μm レギュラー及びシークエンス遷移
-
28a-T-3 CO_2シークエンスレーザーにおける緩和発振IV
-
3a-M-2 CO_2シークエンスレーザーにおける緩和発振
-
30p-R-15 CO_2 Sequence Laserにおける振動緩和過程II
-
4a-ZF-10 CO_2 Sequence Laserにおける振動緩和
-
誘導ラマン光と一次レーザー光の強度の関係 : 量子エレクトロニクス
-
外部鏡ルビー・レーザーの実験 (II) : 量子エレクトロニクス
-
密度の高い光(量子エレクトロニクス)
-
外部鏡ルビー・レーザーの発振(量子エレクトロニクス)
-
4a-B-8 ルビーレーザーの発振特性
-
30p-R-16 CO_2 Sequence Laserにおける回転緩和 : 回転緩和定数の異種ガスによる影響
-
1p-G-1 ^NH_3分子定数の再決定
-
7a-K-3 レーザー分光法によるNH_3,K=0準位の衝突断面積の測定
-
9p-E-11 NH_3における赤外レーザー・マイクロ波二重共鳴実験
-
9p-E-10 CH_3Brにおける赤外レーザー・ミリ波二重共鳴実験
-
27a-R-5 CO_2シークエンスレーザーにおける緩和発振III
-
25a-N-2 CO_2シークエンスレーザーにおける緩和発振II
-
5a-ZF-5 CO_2レーザー媒質中におけるOPTOGALVANIC効果の発生機構
-
5a-ZF-5 CO_2レーザー媒質中におけるOPTOGALVANIC効果の発生機構
-
5a-E5-4 C0_2レーザー(Regular,Sequence)によるCH_3Br吸収線の圧力輻
-
5a-E5-3 C0_2 Sequence Laser準位の回転温度と反転分布数比
-
27a-G-3 Opto Galvanic 信号のモデルによる数値解析
-
G.Herzberg博士(海外の化学者たち)
-
平田森三 : キリンのまだら ; 自然界の統計現象, 中央公論社, 東京, 1975, 261ページ, B6, 1,250円.
-
6p-X-1 CO_2レーザーを用いた分子分光学 : CH_3Br分子の赤外遷移のアイソトープシフト
-
分子分光学の父ヘルツベルグ博士の横顔
-
7a-K-4 ^NH_3分子の10μmバンドの赤外スペクトル
-
熱励起された分子の振動準位の緩和 : 量子エレクトロニクス
-
熱励起による赤外メーザーの実験 : 量子エレクトロニクス
-
10a-G-2 Normal Ruby Laserによる誘導ラマン効果の実験
-
H_2CO J=3,K_=3K型二重次のラジオ波(656KC)スペクトル : 原子分子
-
H_2CO分子線654KCメーザーの特性 : 量子エレクトロニクス
-
-
赤外レーザー・マイクロ波二重共鳴分光学
-
4p-Q-1 赤外レーザーの分子分光学への応用
-
C. H. Townes and P. A. Miles編: Quantum Electronics and Coherent Light, Proceedings of the International School of Physics "ENRICO FERMI" Course XXXI, Academic Press Inc., New York and London, 1964, 371頁, 17×25cm, 6,400円.
-
H_g-NO赤外メーザーの基礎実験 : 量子エレクトロニクス
-
29a-CC-5 CO_2レーザーにおける緩和発振の解析(29a CC 量子エレクトロニクス)
-
31p-SB-10 CO_2 Sequence Laserにおける回転緩和 : 回転温度,反転分布数比,分子数密度の決定(31pSB 量子エレクトロニクス)
もっと見る
閉じる
スポンサーリンク