Variable-Range Hopping in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistor
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概要
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Low-temperature transport measurements on a polycrystalline silicon thin-film transistor have been made in order to clarify the role of bandtail states in the grain boundaries. We find a Mott variable-range hopping (VRH) law of the resistance in the barely insulating regime of the metal-insulator transition. At lower temperatures, the resistance crosses over to Efros-Shklovskii VRH with the opening of a soft Coulomb gap. The magnetoresistance (MR) is negative, and its features are qualitatively explained by existing theories of quantum interference effects in VRH. Furthermore, the Hall coefficient remains essentially constant even in the range of thermally activated conduction and Mott VRH.
- 社団法人日本物理学会の論文
- 1994-04-15
著者
-
邑瀬 和生
大阪教養
-
Takaoka S
Graduate School Of Science Osaka University
-
Murase K
Ntt Corp. Kanagawa Jpn
-
MURASE Kazuo
Faculty of Science, Osaka University
-
TAKAOKA Sadao
Faculty of Science, Osaka University
-
Murase Kazuo
Faculty Of Science Osaka University
-
SERIKAWA Tadashi
NTT Interdisciplinary Research Labs.
-
ISHIDA Shuichi
Science University of Tokyo in Yamaguchi
-
Shirai Seiichi
NTT Interdisciplinary Research Labs.
-
Sakamoto Toshitugu
Faculty Of Engineering Science Osaka University
-
Murase K
Graduate School Of Science Osaka University
-
Ishida Shuichi
Division Of Cardiovascular Medicine Department Of Internal Medicine Ohmori Hospital Toho University
-
Shirai S
Ntt Interdisciplinary Research Labs.
-
Serikawa T
Ntt Cyber Space Lab. Tokyo Jpn
-
Serikawa Tadashi
Ntt Interdisciplinary Research Laboratories
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