1A09 Arイオン照射配向によるFLCDセルの作製と特性(ディスプレイ)
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概要
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We have adopted a hybrid alignment technique to fabricate FLCDs, actually what we have done was using Ar ion beam for one substrate and rubbing technique for the other substrate. By using technique we have succeeded in fabricating a defect free FLCD exhibiting a quasi half-V switching with the contrast ratio of 700 : 1, where we used PI-RN1199 for rubbing and PI-RN715 for ion beam alignment.
- 日本液晶学会の論文
- 2002-10-09
著者
-
小林 駿介
山口東京理科大
-
河本 里留
山口東京理科大学・液晶研究所
-
村上 祐仁
山口東京理科大学、液晶研究所
-
小林 駿介
山口東京理科大学工学部電気工学科
-
小林 駿介
山口東京理科大学・液晶研究所
-
小林 駿介
山口東京理科大学
-
三上 展弘
長州産業(株)
-
中村 宣孝
長州産業(株)
-
河本 里留
山口東京理科大学大学院
-
小林 駿介
山口東京理大 工
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