SiO蒸着膜のフォーミング過程と負性抵抗特性
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概要
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SiO蒸着薄膜のフォーミング過程と負性抵抗特性の蒸着速度依存性と膜厚依存性をAl-Sio-Au構造について調べた。フォミング試料の負性抵抗特性におけるピーク電流値は, SiO蒸着膜の蒸着速度および膜厚の両者の減少と共に増加することがわかった。ピーク電流のSiO蒸着膜の膜厚に対する指数関数的依存性が1000[Å]以下の膜厚範囲において見られた。これらの実験結果はフイラメント・モデルによって十分に説明されることができる。
- 大同工業大学の論文
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