熱プラズマフラッシュ蒸着法による酸化物薄膜の合成
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概要
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Thermal plasma flash evaporation, which was a recently developed process for film growth, was applied to the preparation of the films of BaTiO_3 and Al_2O_3-YSZ composite. In this process, source powders (average diameter : 0.1-1μm) were evaporated in thermal Ar+O_2 plasma (4MHz, 8kW) and deposited onto substrates. Using BaTiO_3 powders as a source, dense films of cubic BaTiO_3 could be prepared on polished fused silica substrates. The effects of process conditions on the deposition characteristics were investigated. Composite films of Al_2O_3-YSZ were prepared by introducing powders of Al_2O_3 and YSZ independently into the plasma. The composition of the films could be controlled with about 5% scatter by regulating the carrier gas flow of source powders. These results show that this process should be a practical tool for the preparation of multicomponent films. For that purpose, the utilization of higher power of plasma and the improvement of apparatus are essential.
- 湘南工科大学の論文
- 1994-03-25
著者
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