<研究報告>高温反応性スパッタリングによるPbS薄膜

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概要

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• In the sublimated atomosphere of Sulphur, nearly stoichiometric thin films are prepared by reactive sputtering method. (002) plane of cubic system of PbS grow parallel to the substrat surface on Pyrex glass. The film deposition rate is about 2500 Å/hour. The values of dark resistivity and photosensitivivity of PbS films prepared in sulphur vapour at 80℃ are about 2×10^<-2>Ω-m and 2 respectively. The elctrical characteristics of sputtered PbS films are nearly of bulk.

• 沼津工業高等専門学校の論文
• 1981-12-20

著者

• 平林 紘治

  沼津工業高等専門学校電気工学科

• 平林 紘治

  沼津工業高等専門学校

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