プラズマCVDによるLSI配線用銅薄膜作製における結晶サイズの増大と配向性向上の研究

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概要

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• 九州大学の論文

著者

• 中武 靖裕

  九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻

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