無電解析出プロセスにおけるCu表面上のヒドラジンと次亜リン酸の酸化反応に対するラマン分光法及び密度汎関数法による解析
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概要
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- 2013-09-05
著者
-
本間 敬之
Department Of Applied Chemistry School Of Science And Engineering Waseda University
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國本 雅宏
Department Of Applied Chemistry Waseda University
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本間 敬之
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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國本 雅宏
Department of Applied Chemistry, Waseda University
-
WODARZ Siggi
Department of Applied Chemistry, Waseda University
-
柳沢 雅広
Nanotechnology Research Center, Waseda University
-
姜 彬
Department of Applied Chemistry, Waseda University
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