Aluminum Implantation in Germanium : Uphill Diffusion, Electrical Activation, and Trapping
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2012-02-25
著者
-
VANDERVORST Wilfried
IMEC, Kapeldreef
-
Vandervorst Wilfried
Imec
-
Priolo Francesco
Matis Imm-cnr And Dipartimento Di Fisica E Astronomia Universita Di Catania
-
IMPELLIZZERI Giuliana
MATIS IMM-CNR and Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Catania
-
NAPOLITANI Enrico
MATIS IMM-CNR and Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Padova
-
BONINELLI Simona
MATIS IMM-CNR and Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Catania
-
PRIVITERA Vittorio
MATIS IMM-CNR and Dipartimento di Fisica e Astronomia, Universita di Catania
-
CLARYSSE Trudo
imec
-
Boninelli Simona
Matis Imm-cnr And Dipartimento Di Fisica E Astronomia Universita Di Catania
-
Napolitani Enrico
Matis Imm-cnr And Dipartimento Di Fisica E Astronomia Universita Di Padova
-
Privitera Vittorio
Matis Imm-cnr And Dipartimento Di Fisica E Astronomia Universita Di Catania
-
Impellizzeri Giuliana
Matis Imm-cnr And Dipartimento Di Fisica E Astronomia Universita Di Catania
-
Clarysse Trudo
imec, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium
関連論文
- Analysis of Ultra-Thin HfO_2/SiON/Si(001) : Comparison of Three Different Techniques
- Critical Parameters for Obtaining Low Particle Densities on a Si Surface in an HF-Last Process
- Aluminum Implantation in Germanium : Uphill Diffusion, Electrical Activation, and Trapping