Electron Cyclotron Resonance Plasma を用いたシリコン深掘り技術
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概要
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- 2010-07-20
著者
-
遠田 豊
株式会社日立ハイテクノロジーズプロセス製造装置三部
-
古瀬 宗雄
株式会社日立ハイテクノロジーズエッチング装置第二設計部
-
高田 和男
株式会社日立ハイテクノロジーズエッチング装置第二設計部
-
堤 貴志
株式会社日立ハイテクノロジーズプロセス製造装置三部
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