晶析法を利用したナノ粒子被覆機構のAFMによる解明
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概要
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- 2009-12-16
著者
-
下坂 厚子
同志社大学 理工学部 化学システム創成工学科
-
白川 善幸
同志社大学 理工学部 化学システム創成工学科
-
日高 重助
同志社大学 理工学部 化学システム創成工学科
-
山中 真也
同志社大学 理工学部 化学システム創成工学科
-
白川 善幸
同志社大学
-
伊藤 将紘
同志社大学 理工学部 化学システム創成工学科
-
白川 善幸
Department Of Chemical Engineering And Materials Science Doshisha University
-
日高 重助
同志社大学
-
下坂 厚子
同志社大学
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