A new robust control for the RF impedance matcher for plasma processing
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概要
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- 2008-09-26
著者
-
高柳 敦
株式会社 京三製作所
-
Takada Koichi
Kyosan
-
HIROSE Yuuki
Yokohama National University
-
KAWAMURA Atsuo
Yokohama National University
-
TAKAYANAGI Atsushi
Kyosan
-
高柳 敦
株式会社京三製作所事業本部半導体機器事業部
-
Kawamura Atsuo
Yokohama National Univ.
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