高濃度ボロン拡散シリコンダイアフラムの機械的特性

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概要

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• 1996-11-11

著者

• 鈴木 健一郎

  日本電気(株)マイクロエレクトロニクス研究所lsi基礎研究部

• 鈴木 健一郎

  NECマイクロエレクトロニクス研究所LSI基礎研究部

• 鈴木 健一郎

  NECマイクロエレクトロニクス研究所

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