高耐圧-逆阻止IGBT向けの新分離層形成プロセス

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概要

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• 2006-10-24

著者

• 武井 学

  富士電機アドバンストテクノロジー

• 下山 和男

  富士電機アドバンストテクノロジー

• 中澤 治雄

  富士電機アドバンストテクノロジー

• 中澤 治雄

  富士電機at

• 下山 和男

  富士電機システムズ株式会社

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