Molecular Dynamics Study of Fast Diffusion of Cu in Silicon
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概要
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- Published by the Japan Society of Applied Physics through the Institute of Pure and Applied Physicsの論文
- 2005-11-30
著者
-
白井 光雲
阪大・産研
-
KATAYAMA YOSHIDA
Department of Condensed Matter Physics, The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR),
-
MICHIKITA Toshiyuki
Department of Condensed Matter Physics, The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR),
-
SHIRAI Koun
Department of Computational Nanomaterials Design, Nanoscience and Nanotechnology Center, ISIR, Osaka
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