シリコーンへのエキシマレーザー照射による薄膜形成と表面改質
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2002-12-09
著者
関連論文
- フェムト秒レーザによる純鉄表層の衝撃硬化
- レーザー光化学反応による発光性シリコーンの開発 (特集 シリコーンが拓く新しいバイオ/フォトニクス)
- 446 フェムト秒レーザー照射による高配向性グラファイトからのダイヤモンド多形体の合成(レーザ加工(I),平成19年度秋季全国大会)
- 329 フェムト秒レーザー照射によるシリコン高圧相の合成(コーティング,平成20年度春季全国大会)
- 鉄鋼材料のフェムト秒レーザ衝撃硬化機構の一考察
- 真空紫外パルスレーザーを用いた高分子材料の表面改質とその応用
- フレキシブルシリコーンゴム基板上へのマイクロ光学部品の集積化(光部品の実装・信頼性,一般)
- 光パラメトリック増幅された近赤外フェムト秒レーザーによるポリシラン薄膜の形成
- フッ素レーザー照射によるシリカ微小球の光化学接合--関根松夫教授に捧ぐ
- 近赤外フェムト秒レーザーによるポリメチルフェニルシラン膜の形成--関根松夫教授に捧ぐ
- 有機ポリシロキサンの光化学表面改質におけるレーザー波長依存性
- F_2レーザーによる有機ポリシロキサン上へのシリカ微小球列の形成
- 高分子材料のレーザーアブレーション
- フェムト秒レーザーによるポリシラン膜の形成
- レーザーアブレーションによる酸化チタン膜の形成と光触媒への応用
- ポリマーへのF_2レーザー照射による微細光学素子の製作
- レーザーアブレーション法による光触媒チタニア膜の形成(安岡義純教授に捧ぐ)
- レーザーアブレーション法によるホウ素ドープダイヤモンド状炭素薄膜の形成(安岡義純教授に捧ぐ)
- パルスレーザーデポジション法により製作した光触媒TiO_2薄膜
- パルスレーザーデポジション法によって製作した薄膜の膜厚に対する酸素圧力の影響
- 開孔設置型off-axisパルスレーザー堆積法によって製作したTa_2O_5薄膜の
- Ta_2O_5薄膜製作のレーザーアブレーションプロセスにおけるプルーム発光
- パルスレーザーデポジション法によって製作したTa_2O_5薄膜の特性
- 開口遮蔽板を用いたオフ・アクシス・パルスレーザ・デポジション法
- オフ・アクシスレーザーアブレーション法によるTa_2O_5薄膜の堆積(II)
- オフアクシス・レーザーアブレーション法によって製作したTa_2O_5薄膜
- Off-axisレーザーアブレーション法によるTa_2O_5薄膜の堆積
- アルミニウムのフェムト秒レーザー駆動衝撃硬化
- フレキシブルシリコーンゴム基板上へのマイクロ光学部品の集積化(光部品の実装・信頼性,一般)
- フレキシブルシリコーンゴム基板上へのマイクロ光学部品の集積化(光部品の実装・信頼性,一般)
- カナダ・トロント大学滞在記
- 特集号に寄せて
- スパッタ酸化法により製作したNi酸化膜の特性
- サマリー・アブストラクト
- 有機ポリシロキサンターゲットを用いたPLD-SiO_2薄膜の酸素ガス圧依存性
- 有機ポリシロキサンのレーザーアブレーションによるSiO2薄膜の室温形成(鈴木隆教授に捧ぐ)
- ArFエキシマレーザによるシリコーンゴムの表面改質と発光層の形成 (特集 レーザを用いた機能創成)
- 真空紫外レーザーを用いたアルミニウム薄膜のパターン形成
- レーザー光化学反応による発光性シリコーンの開発
- パルスレーザ堆積法によって製作したTiO_2薄膜の光触媒効果
- シリコーンへのエキシマレーザー照射による薄膜形成と表面改質
- F_レーザーによるシリコーンの表面改質
- 特集号に寄せて
- フェムト秒レーザ駆動衝撃硬化した純アルミニウムの透過電子顕微鏡観察
- 真空紫外パルスレーザーによるシリコーンゴム基板上へのアルミニウム薄膜のパターニング
- フッ素レーザによる耐摩耗性ポリカーボネートの開発
- レーザーによる軽量・耐衝撃性ガラス代替窓材の開発
- 光パラメトリック増幅された近赤外フェムト秒レーザーによるポリシラン薄膜の形成
- 特集号に寄せて
- フッ素レーザーによるアルミニウム薄膜の表面・界面改質
- フッ素レーザによるAl薄膜の表面・界面改質
- フッ素レーザによる表面改質とその最先端応用