光磁気ディスク用SiN_x誘電体膜の作成条件と特性
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概要
著者
-
堤 和彦
三菱電機(株)
-
堤 和彦
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
菅原 宏
三菱電機(株)材料デバイス研究所
-
藤井 善夫
三菱電機(株)材料デバイス研究所
-
徳永 隆志
三菱電機(株)材料デバイス研究所
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徳永 隆志
三菱電機(株)先端技術総合研究所
-
徳永 隆志
三菱電機(株) 先端技術総合研究所
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菅原 宏
三菱電機(株)
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藤井 善夫
三菱電機(株)先端技術総合研究所
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