徳永 隆志 | 三菱電機(株) 先端技術総合研究所

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• 菅原 宏

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• 深見 達也

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• 中木 義幸

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• 羽島 一夫

  三菱電機(株)材料研究所

• 辻本 浩章

  大阪市立大学大学院工学研究科電子情報系専攻

• 徳永 善夫

  三菱電機(株)先端技術総合研究所

• 徳永 隆志

  三菱電機株式会社 先端技術総合研究所

• 田中 邦麿

  帝京平成大

• 田中 邦麿

  帝京平成大學

• 中木 義幸

  三菱電機(株)材料デバイス研究所

• 辻本 浩章

  大阪市立大学

• 辻本 浩章

  大阪市立大学大学院工学研究科

• 松村 和昭

  三菱電機(株)映像システム開発研究所

• 小沢 義裕

  三菱電機(株)映像システム開発研究所

• 徳永 隆志

  三菱電機

• 掘込 明伸

  帝京平成大学

• 栗原 豊

  帝京平成大学

• 長沢 雅人

  三菱電機株式会社映像システム開発研究所

• 松村 和昭

  三菱電機

• 小沢 義裕

  三菱電機

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著作論文

• 光変調オーバライト媒体における膜設計と組成マージン : 光磁気記録関連 : 画像情報記録
• 光磁気ディスク用SiN_x誘電体膜の作成条件と特性
• TbFeCo二層膜光磁気ディスク媒体 : 録画
• 光変調オーバライト磁気超解像ディスクのローパワー消去特性
• 磁気超解像を用いた光変調ダイレクトオーバーライト技術
• 磁気超解像LIMDOW光磁気ディスク
• 多層膜MOを用いた光変調多値記録における初期化方式の検討
• ランド/グルーブ基板への均一スパッタ成膜の検討
• LIM-DOW超解像光磁気ディスクの録再特性
• 多層膜光磁気ディスクを用いた安定な光変調3値記録方式 : 画像情報記録

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