<半導体プロセス技術>プロセスのTechnology Computer-Aided Design(TCAD)の現状と展望

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概要

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• 応用物理学会の論文
• 2000-07-10

著者

• 羽根 正巳

  「応用物理」編集委員会

• 羽根 正巳

  日本電気(株)NECラボラトリーズシステムデバイス・基礎研究本部シリコンシステム研究所

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