アルキルスルホニウム塩とメタクリル系三元共重合体からなるArFエキシマレーザ露光用化学増幅型レジストの特性
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概要
著者
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岩佐 繁之
NEC機能材料研究所
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前田 勝美
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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中野 嘉一郎
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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岩佐 繁之
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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長谷川 悦雄
NEC機能エレクトロニクス研究所
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長谷川 悦雄
日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所
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中野 嘉一郎
NEC機能エレクトロニクス研究所
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大藤 武
NEC機能エレクトロニクス研究所
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前田 勝美
NEC機能エレクトロニクス研究所
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