長谷川 悦雄 | 日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所

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関連著者

• 長谷川 悦雄

  日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所

• 前田 勝美

  日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所

• 岩佐 繁之

  日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所

• 中野 嘉一郎

  日本電気株式会社ナノエレクトロニクス研究所

• 長谷川 悦雄

  日本電気(株)機能エレクトロニクス研究所

• 前田 勝美

  日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所

• 岩佐 繁之

  日本電気(株)環境・材料研究所

• 岩佐 繁之

  日本電気(株)基礎・環境研究所

• 中野 嘉一郎

  日本電気(株)ナノエレクトロニクス研究所

• 岩佐 繁之

  日本電気(株)グリーンイノベーション研究所

• 岩佐 繁之

  日本電気株式会社グリーンイノベーション研究所

• 岩佐 繁之

  NEC機能材料研究所

• 長谷川 悦雄

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 中野 嘉一郎

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 大藤 武

  NEC機能エレクトロニクス研究所

• 前田 勝美

  NEC機能エレクトロニクス研究所

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著作論文

• ラクトン骨格を有するポリマーの研究開発動向
• ArF化学増幅型レジスト材料の分子設計と開発
• ArF化学増幅型レジスト材料の分子設計と開発
• ArFエキシマレーザー露光用ネガ型レジストの開発
• ギガビットDRAM対応フォトレジスト材料の研究動向
• 高ドライエッチング耐性を有するArF化学増幅型レジストの開発
• アルキルスルホニウム塩とメタクリル系三元共重合体からなるArFエキシマレーザ露光用化学増幅型レジストの特性

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