高E/n放電のシミュレーションによる荷電粒子分布の解析
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 高分子材料の放電プラズマ表面改質におけるフォトルミネセンスによるその場検出への応用
- アルゴンプラズマアークによる放射パワーと集光点温度上昇の関係
- 低エネルギーイオン照射及び電子照射によるPMMAの表面硬度向上
- 二段式電気集じん装置における再飛散現象に対する集じん部印加電圧波形の効果
- 高E/n放電によるPTFE表面への極性基導入における窒素イオンの寄与
- 低エネルギーイオン照射によるPTFEの構造変化 : 架橋形成による構造崩壊の抑制
- 高分子材料の表面状態と光電子放出量の関係
- 高気圧窒素中における絶縁破壊時のNO, CO_2およびSF_6混入による初期電子数の減少
- 武蔵工業大学 工学部 電気電子工学科 電力社会システム工学コース 気体エレクトロニクス研究室
- 鉄蒸気混入高温アルゴンの紫外線放射係数
- 非熱平衡を考慮したパルス状高温空気のNO粒子密度
- 電流・アーク長変化時におけるツイントーチプラズマアークの電圧特性
- ツイントーチプラズマアーク発生装置の開発
- 2003年 研究開発の動向
- 窒化炭素CNx作製における照射イオンのエネルギー依存の検討
- 窒化炭素(CNx)作製における照射イオンエネルギーの効果
- パルスアーク放電の放射特性
- 高E/n放電のシミュレーションによる荷電粒子分布の解析
- ボイド内部分放電劣化に対する水分の影響
- パルスアーク放電における電流と線スペクトル放射パワー密度
- 高気圧窒素ガス中の破壊確率におよぼすコロナ放電の影響
- 窒素準安定励起分子の実効電離係数に対する影響
- 減圧アークによる表面処理後の酸化膜除去効果
- 表面のフッ化処理における水素混入の効果
- 流れアフターグロー法を用いたフッ化処理における酸素の影響
- 環状水素化炭素モノマーを用いたプラズマ支援重合膜特性への堆積温度の影響
- プラズマ支援重合法による高分子光導波路の形成
- Poly(4-vinylpyridine-co-styrene) の側鎖に水素結合した非線形光学低分子 p-(dimethylamino)benzoicacid のコロナポーリング
- 窒素準安定励起分子密度のクエンチングによる制御の検討
- 窒素準安定励起分子生成量のクエンチングによる制御の検討
- 酸化膜除去時における減圧アーク陰極点の発生軌跡
- 低エネルギーイオン照射によるPMMAの表面改質
- 低エネルギーイオン照射によるPMMAの表面改質II
- イオンビーム照射法によるPMMAの表面改質 : 深さ方向の分析
- Biberman Factor を考慮した高温アルゴンガスにおける波長別放射成分特性
- アーク溶接のモニタリング手法
- LTE条件下におけるプラズマアークの電極間距離変化時の温度・放射分布
- 先端の鋭利な金属異物が混入したSF_6ガスの絶縁破壊強度評価法
- 減圧アーク陰極点によるステンレス表面の酸化膜厚みと酸化膜除去の関係
- しきい値イオン化質量分析法を用いた窒素準安定励起分子の検出
- 極性基付加によるポリスチレンのフォトルミネセンススペクトルの変化
- 準平等電界下における高気圧窒素ガスの絶縁破壊特性
- 高E/n領域の放電によるPTFEの表面処理 : 処理表面の化学的安定性
- 高E/N放電空間における振動準位の高いN_2(C^3II_u)の生成過程
- 放電処理による表面の化学変化のフォトルミネセンスによる検出
- NO励起粒子の高分子材料の表面改質への有効性
- 高E/n領域の放電による高分子表面処理 : 処理後の表面状態の検討
- 放電によりPTFE表面に導入された水溶性極性基の存在の確認
- 質量分析計を用いた窒素準安定励起分子の検出と生成量の検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布 (II)
- 高E/n領域窒素放電に関連した高い振動レベルのN_2(A^3〓_u^+)の生成過程についての検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布
- 高E/n窒素放電中の再結合によるN_2(A^3Σ^+_u)生成過程の解析
- ホローカソード放電での下流域における位置の違いによるPTFE表面への極性基導入の変化
- 低気圧中で発生するN_2(A^3Σ_u^+)の電子増倍現象への影響
- 金属蒸気混入率変化時における高温アルゴンの紫外線放射
- 電極角度変化時におけるツイントーチプラズマアーク姿態とローレンツ力の関係
- 高気圧窒素中での繰り返し放電による遅れ時間の変化
- 電極角度変化時におけるツイントーチプラズマアーク姿態
- PTFE表面改質時の極性基導入過程における窒素イオンの効果
- 高気圧窒素ガスにおけるNO, SF_6ガス混合による初期電子抑制
- 1. はじめに(大気圧プラズマを点けてみよう)
- 吸収を考慮した高温アルゴンガスにおける波長別放射パワー密度
- 半楕円反射板を用いたアルゴンプラズマアークの赤外線による集光点温度上昇
- ツイントーチプラズマアークの温度分布と受熱量
- 高温アルゴンガスにおける波長別放射成分
- 輸送時間を用いたN原子の実効的な拡散係数の算出
- 放電処理された高分子材料表面のフォトルミネセンスによる極性基検出への検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布(III)
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布
- 低気圧放電による高分子材料の表面処理(II)
- 高分子表面処理における紫外光と励起分子の効果
- 高分子表面処理における準安定励起種の効果
- 低気圧放電による高分子材料の表面処理
- 放電プラズマで処理した高分子材料の蛍光(II)
- 蛍光体を用いた窒素準安定励起分子の粒子束の検出
- 固体の蛍光を利用した準安定励起分子の表面反応検出法の提案
- 蛍光体を利用した準安定励起分子の表面反応検出法について
- 蛍光体を用いた準安定励起種の衝突の検出 : G-Cu発光(ZnS:Cu,Al)の蛍光減衰の測定
- 高E/n領域の放電における窒素励起分子の振動温度の測定
- ダイヤモンド構造の成長における負イオンの効果
- 第13回気体放電とその応用国際会議(GD2000)報告
- ボイド放電劣化における半導電層の効果
- 吸着ガス等の多い電極表面における二次電子エネルギー分布
- 真空中における沿面放電研究の現状
- 窒素中負コロナ放電における電流の経時変化とNO濃度変化
- 負コロナ放電における電流経時変化の研究(3)
- ダイヤモンド構造の成長における負イオンの効果
- 4a-K-8 PIG放電管の磁界トリガーによる放電開始特性(I)
- 高E/n領域の放電における窒素準安定励起粒子の生成と粒子束に関するシミュレーション
- 低気圧放電によるPTFEの処理表面における窒素励起分子の効果(II)
- 低気圧放電によるPTFEの表面処理における窒素励起分子の効果
- 無声放電を用いたKrF^*エキシマ生成における希釈ガスの効果について
- 無声放電を用いたKrF^*エキシマ生成における希釈ガスの効果(II)