堺 孝夫 | 武蔵工業大学
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
堺 孝夫
武蔵工業大学
-
湯本 雅恵
武蔵工業大学
-
堺 孝夫
武蔵工業大学工学部
-
浜村 尚樹
武蔵工業大学 工学部
-
湯本 雅恵
東京都市大学
-
新国 哲也
武蔵工業大学
-
八木 誠人
武蔵工業大学
-
江原 由泰
武蔵工業大学
-
伊藤 泰郎
武蔵工業大学
-
渋谷 浩司
武蔵工業大学
-
小野寺 朋和
武蔵工業大学
-
宮沢 英行
武蔵工業大学
-
長竹 和浩
武蔵工業大学
-
梶谷 正史
武蔵工業大学
-
伊豆倉 孝昌
武蔵工業大学
-
植松 克之
武蔵工業大学
-
井原木 洋
武蔵工業大学
-
星野 聡彦
武蔵工業大学
-
波多野 圭
武蔵工業大学
-
高田 達雄
武蔵工業大学
-
岸田 治夫
武蔵工業大学
-
吉澤 隆之
武蔵工業大学
-
櫻井 達也
武蔵工大
-
小泉 直也
武蔵工業大学
-
横井 徹
武蔵工業大学
-
櫻井 達也
武蔵工業大学
-
久保田 純
武蔵工業大学
-
浦野 幸治
住友電気工業(株)
-
浦野 幸治
武蔵工業大学
-
日比谷 利一郎
武蔵工業大学
-
川原 洋司
武蔵工業大学
-
青山 和裕
武蔵工業大学
-
齋藤 敦志
武蔵工業大学
-
清水 雄一郎
武蔵工業大学
-
櫻井 澄
武蔵工業大学
-
松田 悟司
武蔵工業大学工学部
-
下里 浩嗣
武蔵工業大学工学部
-
北川 元
武蔵工業大学
-
細貝 則夫
武蔵工業大学
-
河西 琢磨
武蔵工業大学
-
小峰 啓介
武蔵工業大学
-
山城 啓輔
武蔵工業大学
-
谷澤 昭尋
武蔵工業大学
-
河田 進二
武蔵工業大学
-
鳥山 四男
武蔵工業大学
-
谷澤 昭尋
武蔵工大
-
輪島 淳司
武蔵工業大学電気電子工学科
著作論文
- 高分子材料の放電プラズマ表面改質におけるフォトルミネセンスによるその場検出への応用
- 窒化炭素CNx作製における照射イオンのエネルギー依存の検討
- 窒化炭素(CNx)作製における照射イオンエネルギーの効果
- 高E/n放電のシミュレーションによる荷電粒子分布の解析
- ボイド内部分放電劣化に対する水分の影響
- 高気圧窒素ガス中の破壊確率におよぼすコロナ放電の影響
- 窒素準安定励起分子の実効電離係数に対する影響
- 表面のフッ化処理における水素混入の効果
- 流れアフターグロー法を用いたフッ化処理における酸素の影響
- 窒素準安定励起分子密度のクエンチングによる制御の検討
- 窒素準安定励起分子生成量のクエンチングによる制御の検討
- しきい値イオン化質量分析法を用いた窒素準安定励起分子の検出
- 極性基付加によるポリスチレンのフォトルミネセンススペクトルの変化
- 準平等電界下における高気圧窒素ガスの絶縁破壊特性
- 高E/n領域の放電によるPTFEの表面処理 : 処理表面の化学的安定性
- 高E/N放電空間における振動準位の高いN_2(C^3II_u)の生成過程
- 放電処理による表面の化学変化のフォトルミネセンスによる検出
- NO励起粒子の高分子材料の表面改質への有効性
- 高E/n領域の放電による高分子表面処理 : 処理後の表面状態の検討
- 放電によりPTFE表面に導入された水溶性極性基の存在の確認
- 質量分析計を用いた窒素準安定励起分子の検出と生成量の検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布 (II)
- 高E/n領域窒素放電に関連した高い振動レベルのN_2(A^3〓_u^+)の生成過程についての検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布
- 高E/n窒素放電中の再結合によるN_2(A^3Σ^+_u)生成過程の解析
- ホローカソード放電での下流域における位置の違いによるPTFE表面への極性基導入の変化
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布
- 低気圧放電による高分子材料の表面処理(II)
- 高分子表面処理における紫外光と励起分子の効果
- 高分子表面処理における準安定励起種の効果
- 低気圧放電による高分子材料の表面処理
- 放電プラズマで処理した高分子材料の蛍光(II)
- 蛍光体を用いた窒素準安定励起分子の粒子束の検出
- 固体の蛍光を利用した準安定励起分子の表面反応検出法の提案
- 蛍光体を利用した準安定励起分子の表面反応検出法について
- 蛍光体を用いた準安定励起種の衝突の検出 : G-Cu発光(ZnS:Cu,Al)の蛍光減衰の測定
- 高E/n領域の放電における窒素励起分子の振動温度の測定
- ダイヤモンド構造の成長における負イオンの効果
- ボイド放電劣化における半導電層の効果
- 吸着ガス等の多い電極表面における二次電子エネルギー分布
- 窒素中負コロナ放電における電流の経時変化とNO濃度変化
- 負コロナ放電における電流経時変化の研究(3)
- ダイヤモンド構造の成長における負イオンの効果
- 4a-K-8 PIG放電管の磁界トリガーによる放電開始特性(I)
- 高E/n領域の放電における窒素準安定励起粒子の生成と粒子束に関するシミュレーション
- 低気圧放電によるPTFEの処理表面における窒素励起分子の効果(II)
- 低気圧放電によるPTFEの表面処理における窒素励起分子の効果
- 無声放電を用いたKrF^*エキシマ生成における希釈ガスの効果について
- 無声放電を用いたKrF^*エキシマ生成における希釈ガスの効果(II)