堺 孝夫 | 武蔵工業大学工学部
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概要
関連著者
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湯本 雅恵
武蔵工業大学
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堺 孝夫
武蔵工業大学
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堺 孝夫
武蔵工業大学工学部
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湯本 雅恵
東京都市大学
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浜村 尚樹
武蔵工業大学 工学部
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小野寺 朋和
武蔵工業大学
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宮沢 英行
武蔵工業大学
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梶谷 正史
武蔵工業大学
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伊豆倉 孝昌
武蔵工業大学
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八木 誠人
武蔵工業大学
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吉澤 隆之
武蔵工業大学
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櫻井 達也
武蔵工大
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櫻井 達也
武蔵工業大学
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久保田 純
武蔵工業大学
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日比谷 利一郎
武蔵工業大学
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齋藤 敦志
武蔵工業大学
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櫻井 澄
武蔵工業大学
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松田 悟司
武蔵工業大学工学部
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下里 浩嗣
武蔵工業大学工学部
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北川 元
武蔵工業大学
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細貝 則夫
武蔵工業大学
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河西 琢磨
武蔵工業大学
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小峰 啓介
武蔵工業大学
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山城 啓輔
武蔵工業大学
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谷澤 昭尋
武蔵工業大学
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谷澤 昭尋
武蔵工大
著作論文
- 高分子材料の放電プラズマ表面改質におけるフォトルミネセンスによるその場検出への応用
- 窒化炭素CNx作製における照射イオンのエネルギー依存の検討
- 窒化炭素(CNx)作製における照射イオンエネルギーの効果
- 高気圧窒素ガス中の破壊確率におよぼすコロナ放電の影響
- 窒素準安定励起分子の実効電離係数に対する影響
- しきい値イオン化質量分析法を用いた窒素準安定励起分子の検出
- 極性基付加によるポリスチレンのフォトルミネセンススペクトルの変化
- 準平等電界下における高気圧窒素ガスの絶縁破壊特性
- 高E/n領域の放電によるPTFEの表面処理 : 処理表面の化学的安定性
- 高E/N放電空間における振動準位の高いN_2(C^3II_u)の生成過程
- 放電処理による表面の化学変化のフォトルミネセンスによる検出
- NO励起粒子の高分子材料の表面改質への有効性
- 高E/n領域の放電による高分子表面処理 : 処理後の表面状態の検討
- 放電によりPTFE表面に導入された水溶性極性基の存在の確認
- 質量分析計を用いた窒素準安定励起分子の検出と生成量の検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布 (II)
- 高E/n領域窒素放電に関連した高い振動レベルのN_2(A^3〓_u^+)の生成過程についての検討
- 高分子表面処理における改質層の深さ方向分布
- 高E/n窒素放電中の再結合によるN_2(A^3Σ^+_u)生成過程の解析
- ホローカソード放電での下流域における位置の違いによるPTFE表面への極性基導入の変化